OpenLeveringenEuropeesOpenbaar
European Tender Electron Beam Lithography system
Universiteit Twente · Openbaar · 1 percelen · 429052
0
0 van 6 kerninzichten gevonden
Meet aanwezigheid, niet juistheid · documenten blijven leidend
ScopeAdviesAandachtspuntenGeschiktheidseisenGunningscriteriaPlanning
Type
Leveringen
38000000 · Laboratoriuminstrument
Geraamde waarde
€ 3,50M
geraamd
Tot deadline
59d
14 aug 2026 · 10:00
Knock-outs
n.b.
uitsluitingsgronden
Gunning op
Beste prijs-kwaliteit
Beoordeel handmatigvertrouwen laag
De Universiteit Twente (MESA+ Institute) koopt een hoogwaardig Electron Beam Lithography systeem aan voor onderzoek en industrieel gebruik. De opdracht heeft een hoge waarde van €3,5 miljoen en richt zich op een zeer specialistische machine voor patronen op substraten tot 200mm. Gezien de technische complexiteit en de waarde is dit een grote, specialistische levering.
Leveringen · Openbaar · Europese procedure
Europees
KenmerkenCPV 38LeveringenEU-aanbesteding
01Wat wordt gevraagd
De Universiteit Twente (MESA+ Institute) koopt een hoogwaardig Electron Beam Lithography systeem aan voor onderzoek en industrieel gebruik. De opdracht heeft een hoge waarde van €3,5 miljoen en richt zich op een zeer specialistische machine voor patronen op substraten tot 200mm. Gezien de technische complexiteit en de waarde is dit een grote, specialistische levering.
The University of Twente is tendering to purchase an Electron Beam Lithography system. The MESA+ Institute of the University of Twente will invest in a new Electron Beam system (e-beam system). A system, suitable for defining patterns in electron sensitive resists, at high resolution and high speed, compatible with a wide range of applications and substrate types up to 200mm in diameter. The system will be used by a wide range of users, i.e. academic researchers and students as well as industrial engineers with different backgrounds (photonics, (nano)-electronics etc.) and different levels of
1European Tender Electron Beam Lithography system€ 3.500.000
02Uitsluitingsgronden
Uitsluitingsgronden — raadpleeg het UEA
- Geen specifieke uitsluitingsgronden geëxtraheerd. Bij een Europese aanbesteding gelden vrijwel altijd de verplichte en facultatieve gronden uit art. 2.86/2.87 Aw — controleer het Uniform Europees Aanbestedingsdocument.
03Waarde in context
€ 3.500.000
04Waarschijnlijke concurrenten
#Waarschijnlijke inschrijverPasvormWins
1Bruker Nederland B.V.SME8913×
2Agilent Technologies Netherlands B.V.SME8610×
3Waters Chromatography B.V.SME8412×
4Carl Zeiss B.V.SME8310×
5FEI Europe B.V.SME827×
6Oxford Instruments GmbHUnknown815×
05Aanbestedingsdocumenten
Appendix E Draft agreement EBL system.pdfpdf14 jun 2026 · 236 KB
Appendix B Schedule of Requirements and Wishes.docxdocx14 jun 2026 · 101 KB
Appendix B Schedule of Requirements and Wishes.docxdocx14 jun 2026 · 101 KB
aisut-2019-uk.pdfpdf14 jun 2026 · 114 KB
Beschrijving.pdfpdf14 jun 2026 · 27 KB
Appendix E Draft agreement EBL system.pdfpdf14 jun 2026 · 236 KB
Grounds for Exclusion and Eligibility Requirements.pdfpdf14 jun 2026 · 29 KB
Purchasing Conditions.pdfpdf14 jun 2026 · 22 KB
Descriptive Document EBL system.pdfpdf14 jun 2026 · 447 KB
Inschrijvingsfase.pdfpdf14 jun 2026 · 27 KB
Draft Agreement.pdfpdf14 jun 2026 · 22 KB
aisut-2019-uk.pdfpdf14 jun 2026 · 114 KB
06Juridische thema's die hier kunnen spelen
Advies 755> De kern van de klacht is dat aanbesteder onvoldoende heeft gezorgd voor een gelijk speelveld, onder meer door: (1) het hanteren Advies 797> De klacht van een brancheorganisatie in groenonderhoud en -voorzieningen gaat over een Europese openbare aanbesteding van een RAAdvies 824> Dit advies gaat over een opdracht voor de levering en het beheer van een participatieplatform die meervoudig onderhands is aanbeKlacht gegrondAdvies 791> Dit advies betreft het prijscriterium in een aanbesteding van bedrijfskleding, schoeisel en persoonlijke beschermingsmiddelen. DKlacht gegrondAdvies 774> Dit advies gaat over een opdracht voor het gedeeltelijk vervangen, aanpassen en in beheer en onderhoud nemen van een cameratoezi
07Veelgestelde vragen
Wat is de status van deze aanbesteding?
Deze aanbesteding is op dit moment open voor inschrijving. gepubliceerd door Universiteit Twente over "European Tender Electron Beam Lithography system".
Om wat voor type opdracht gaat het?
Dit is een leveringenopdracht (goederen, materialen of producten).
Welke aanbestedingsprocedure wordt gevolgd?
De aanbestedende dienst gebruikt een openbare procedure — iedere geïnteresseerde partij mag een inschrijving indienen.
Wanneer is de inschrijfdeadline?
De uiterste datum voor het indienen van een inschrijving is 14 augustus 2026 (nog 59 dagen).
Wat is de geschatte waarde van deze opdracht?
De geraamde waarde van deze opdracht bedraagt € 3.500.000. Dit is een indicatie door de aanbestedende dienst; de uiteindelijke gunningswaarde kan afwijken.
Welke CPV-code valt onder deze aanbesteding?
De hoofd CPV-code is 38000000, omschreven als "Laboratoriuminstrumenten, optische en precisie-instrumenten (uitgezonderd brillen)". CPV (Common Procurement Vocabulary) is de Europese standaard voor het classificeren van overheidsopdrachten.
Waar wordt deze opdracht uitgevoerd?
De plaats van uitvoering is NL (NUTS: NL213), Europees.
Is dit een Europese aanbesteding?
Ja, deze opdracht overschrijdt de Europese drempelwaarde en valt daarmee onder de Europese aanbestedingsregels (Aanbestedingswet 2012).
Bestaat deze opdracht uit meerdere percelen?
Ja, de opdracht is verdeeld in 1 perceel. Inschrijvers kunnen mogelijk per perceel of voor het geheel inschrijven; raadpleeg de aanbestedingsstukken voor de exacte voorwaarden.
Waar vind ik de officiële aanbestedingsstukken?
De volledige aanbestedingsstukken (bestek, programma van eisen, nota van inlichtingen) zijn te raadplegen via het officiële e-aanbestedingsplatform dat door de aanbestedende dienst wordt gebruikt voor deze procedure.
Wat is de technische kernopdracht van deze aanbesteding?
De opdracht betreft de levering van een Electron Beam Lithography systeem dat geschikt is voor het definiëren van patronen in elektrongevoelige resists met een hoge resolutie en snelheid.
Aan welke specificaties moet het geleverde systeem voldoen wat betreft substraten?
Het systeem moet compatibel zijn met een breed scala aan toepassingen en substraten met een diameter tot 200mm.
Voor welke doelgroepen binnen het MESA+ Institute is het systeem bedoeld?
Het systeem wordt gebruikt door een diverse groep gebruikers, waaronder academische onderzoekers, studenten en industriële engineers uit de fotonica en (nano)-elektronica.
Automatisch samengesteld op basis van de officiële aanbestedingsgegevens en documenten.
08Geraamde waarde t.o.v. de markt
p25
€ 300K
€ 300K
mediaan
€ 515K
€ 515K
p75
€ 1,7 mln
€ 1,7 mln
€ 3,5 mln
Gegunde waarden in CPV 38 · leveringen n=331